用途：
应用于石油、化工、冶金、电力、医药卫生、食品、工业自动控制、发酵等行业测量各种腐蚀性介质。
特点：
1、采用进口扩散硅芯片，长期稳定性好
2、激光调阻温度补偿，使用温域宽
3、抗干扰设计，适合恶劣使用环境；法兰连接，安全可靠
4、可配数字显示器做现场输出指示
5、功耗低、迟滞误差小、重复性好、体积小、重量轻
主要技术指标：
测量范围：0-6KPa或0-35MPa
输出信号：4-20mA,0-10mA 或0-5V,1-5V
供电电压：24VDC
工作温度：0-50℃
测量精度：A级≤±0.25％，B级≤±0.5％
工作原理：
利用单晶硅的压阻效应，在单晶硅膜片上扩散一个惠斯登电桥，被测压力通过隔离膜片和灌充的硅油传送到敏感元件上，由于压阻效应，四个桥臂电阻的阻值发生变化，电桥失衡，敏感元件输出端就有一个对应于压力变化的信号输出。此信号经由IC放大电路，输出一个标准的信号。
